Главная страница  |  Описание сайта  |  Контакты
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ

Патент Российской Федерации
Суть изобретения: Использование: в области нанесения износостойких, коррозийно-стойких и декоративных покрытий на изделия. Сущность изобретения: с целью упрощения конструкции при сохранении качества покрытия в устройстве на торцевых стенках вакуумной камеры с внутренней стороны размещены электроды высоковольтного разряда, выполненные в виде полос, равномерно отстоящих одна от другой, с суммарной площадью поверхности полос, составляющей не менее 10% от площади поверхности торцевых крышек. 1 з. п. ф-лы, 2 ил.
Поиск по сайту

1. С помощью поисковых систем

   С помощью Google:    

2. Экспресс-поиск по номеру патента


введите номер патента (7 цифр)

3. По номеру патента и году публикации

2000000 ... 2099999   (1994-1997 гг.)

2100000 ... 2199999   (1997-2003 гг.)
Номер патента: 2050420
Класс(ы) патента: C23C14/32, C23C14/00
Номер заявки: 93027049/02
Дата подачи заявки: 12.05.1993
Дата публикации: 20.12.1995
Заявитель(и): Научно-производственная фирма "Химмет"; Производственное объединение "Электромеханика"
Автор(ы): Назаров Ю.Н.; Кулешов М.П.; Константинов В.В.; Волчков Э.К.; Дунаевский В.И.; Горбатенко В.П.; Туляков Н.В.
Патентообладатель(и): Научно-производственная фирма "Химмет"; Производственное объединение "Электромеханика"
Описание изобретения: Изобретение относится к области нанесения износостойких покрытий в вакууме на режущий инструмент, декоративных покрытий на изделие произвольной формы, в частности на товары народного потребления, и коррозионно-стойких покрытий на крупногабаритные изделия для авиационной и химической отраслей промышленности.
Известно устройство для получения тонкой пленки ионным осаждением, содержащее источник ионов и источник испаряемого материала. Испарение осаждаемого материала осуществляют с помощью дугового разряда. При этом источник ионов и дуговой источник располагают над подложкой, что обеспечивает защиту источника ионов от загрязнений примесями [1]
Недостатком данного устройства является низкая производительность и его сложность из-за введения дополнительных источников ионов для осуществления предварительной обработки.
Наиболее близким техническим решением к изобретению является устройство для нанесения покрытий, содержащее цилиндрическую вакуумную камеру, источник высокочастотного разряда, с помощью которого осуществляется очистка поверхности и активация, магнетронный источник нанесения покрытия, выполненный с возможностью поворота, в зависимости от режима обработки изделия [2]
В данном устройстве процесс очистки и активации поверхности и нанесения покрытия осуществляют в одной камере. Однако недостатком его является сложность конструкции из-за использования поворотного устройства, ненадежность в работе и невозможность совмещения операций очистки изделия по объему и нанесения покрытия.
Задачей изобретения является упрощение конструкции при сохранении качества покрытий на изделиях.
Данная задача решена в устройстве для нанесения покрытий, содержащем цилиндрическую вакуумную камеру, источник активации поверхности обрабатываемого материала и источник нанесения покрытия с соответствующими источниками питания. Согласно изобретению камера содержит электроды высоковольтного разряда, которые установлены на внутренних поверхностях торцевых крышек вакуумной камеры, электроизолированы от них и выполнены в виде полос, равномерно отстоящих одна от другой, причем суммарная площадь полос составляет не менее 10% от площади торцевых крышек.
Размещение электродов высоковольтного разряда обеспечивает упрощение конструкции при сохранении качества покрытия, а выбор конкретной формы и площади электродов и расстояния между ними способствует более эффективной активации изделий, что позволяет улучшить адгезионные свойства напыляемых покрытий.
При выполнении полос площадью, составляющей менее чем 10% от площади торцевой крышки, наблюдается снижение адгезионных свойств покрытия в результате неравномерности травления поверхности в процессе предварительной очистки изделия.
На фиг. 1 изображено устройство, содержащее корпус 1 вакуумной камеры, электроды 2 высоковольтного разряда, линейный дуговой испаритель 3, являющийся источником нанесения покрытия, средство 4 крепления дугового испарителя, источник 5 питания высоковольтного разряда, изоляторы 6, подложкодержатель 7, напыляемое изделие 8.
На фиг.2 показан разрез устройства по А-А на фиг.1.
Устройство работает следующим образом. Подготовленные 8 к напылению изделия загружают в корпус 1 вакуумной камеры, объем которой откачивают до давления Р ≈ 10-3.5 ˙10-3 мм рт.ст. после чего включают источник 5 питания высоковольтного разряда и осуществляют активацию изделий 8 путем травления их поверхности.
После очистки проводят напыление покрытия при давлении Р ≈ 5˙ 10-3 мм рт. ст. с помощью линейного дугового испарителя 3. По достижении конкретной толщины покрытия и качества процесс прекращают.
Данное устройство просто в эксплуатации, не требует больших энергозатрат, эффективно в работе, позволяет наносить покрытия высокого качества как из чистых металлов, так и их сплавов.
Формула изобретения: 1. УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, содержащее цилиндрическую вакуумную камеру, устройство для активации поверхности обрабатываемого материала, источник нанесения покрытия и источники питания, отличающееся тем, что в камере установлены высоковольтные электроды разряда на внутренних поверхностях торцевых крышек вакуумной камеры, электроизолированы от них и выполнены в виде полос, равномерно отстоящих одна от другой, причем суммарная площадь полос составляет не менее 10% от площади торцевых крышек.
2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что в качестве источника нанесения покрытия использован линейный электродуговой испаритель.